이온도금

I o n   P l a t i n g

ArC에 의한 방법

진공조내에 적정 진공도를 유지하고 Target에 전원을 걸어준 다음, Ignite로 반응을 시키면 맴돌이 Plasma가 형성을 합니다. 이 때, 금속 이온을 방출하며 제품에 피막이 입혀지는 방법입니다.

* 여기서 Sputtering 방식은 Ar gas가 필히 있어야 하지만 ArC 방식에서는 그렇지 않을 수도 있습니다.

Sputtering에 의한 방법

진공조내에 2 x 10 -3 이하에서 무반응 Gas, Ar gas를 투입하고 Ti, target 또는 Zr, Cr target에 전압을 걸어주면 Ar gas의 이온이 Target 표면에 충돌, 금속이온 입자를 방출하여 제품에 피막이 입혀지는 방법을 말합니다.

이 때, 질소와 아세틸렌 Gas를 주입하여 다양한 Color를 낼 수 있습니다.

이온도금의 장점

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습식이나 진공증착 방식보다 막의 질이 치밀하여 내마모가 강하다.

표면에 고른 두께막을 얻을 수 있다.

폐수 및 대기공해 발생이 미미하다.

도금 생성 속도가 빠르다.

Ti 재료가 인체 친화력이 있어 무해하며 치과재료(임플란트)로 사용을 한다.

이온도금 COLOR 종류

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